盛美上海(688082.SH)再次向市場(chǎng)展示了其強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力。

(相關(guān)資料圖)

11月18日，盛美上海在科創(chuàng)板上市一周年這個(gè)特殊的日子里，推出了里程碑式的新產(chǎn)品：前道涂膠顯影Track設(shè)備Ultra LITH，這標(biāo)志著盛美上海正式進(jìn)入了半導(dǎo)體前道涂膠顯影領(lǐng)域。

自2021年上市以來(lái)，僅一年的時(shí)間內(nèi)，盛美上海便陸續(xù)發(fā)布了7款新產(chǎn)品，涉及了半導(dǎo)體及新型化合物半導(dǎo)體制造工藝的電鍍、清洗、薄膜沉積等多個(gè)環(huán)節(jié)，而此次的涂膠顯影Track設(shè)備，已是年內(nèi)的第8款新品。

更為關(guān)鍵的是，此次前道涂膠顯影Track設(shè)備的推出，無(wú)論是對(duì)光刻產(chǎn)業(yè)亦或是對(duì)盛美上海自身而言，都具有重大意義。

從光刻產(chǎn)業(yè)來(lái)看，涂膠顯影在前道晶圓制造的光刻環(huán)節(jié)中發(fā)揮著重要作用，是光刻機(jī)的輸入和輸出端，與光刻機(jī)配合工作，在曝光前進(jìn)行光刻涂膠覆蓋，在曝光后進(jìn)行圖形的顯影。據(jù)Gartner數(shù)據(jù)顯示，2021年，全球的涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)37億美元，據(jù)此推算，中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模已達(dá)40億人民幣。

但整個(gè)市場(chǎng)呈現(xiàn)出一家獨(dú)大的局面。目前，業(yè)內(nèi)廠商主要有東京電子(TEL)、日本迪恩士(DNS)、德國(guó)蘇斯微(SUSS)、臺(tái)灣億力鑫(ELS)和國(guó)內(nèi)的芯源微。其中，僅東京電子一家便占據(jù)了全球88%和中國(guó)91%的涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)份額，下游制造商迫切希望能有更多的選擇。

特別是在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)，半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)替代已是大勢(shì)所趨，但國(guó)內(nèi)涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)制造商稀少，國(guó)產(chǎn)化率不足5%，涂膠顯影設(shè)備的國(guó)產(chǎn)替代情勢(shì)嚴(yán)峻。而盛美上海最新推出的Ultra LITH設(shè)備可謂是恰逢其時(shí)。

從盛美上海自身的發(fā)展來(lái)看，涂膠顯影Track設(shè)備是公司繼半導(dǎo)體清洗設(shè)備、半導(dǎo)體電鍍?cè)O(shè)備、先進(jìn)封裝濕法設(shè)備、立式爐管設(shè)備四大產(chǎn)品系列外的又一新產(chǎn)品系列。在五大系列產(chǎn)品的支持下，盛美上海已然成為國(guó)內(nèi)平臺(tái)級(jí)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商。

這對(duì)于以單一的清洗設(shè)備起家的盛美上海而言，無(wú)疑是巨大的突破。盛美上海表示，公司將在2022年內(nèi)再推出一款新產(chǎn)品，屆時(shí)，公司產(chǎn)品組合對(duì)應(yīng)的市場(chǎng)空間將從80-90億美元提升至160-180億美元，這是2021年全球清洗設(shè)備市場(chǎng)總規(guī)模的4.5倍，這將為盛美上海在長(zhǎng)期維度上取得持續(xù)高成長(zhǎng)的業(yè)績(jī)打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

若復(fù)盤盛美上海的發(fā)展歷史不難發(fā)現(xiàn)，打造差異化的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品是其成長(zhǎng)為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)先企業(yè)的關(guān)鍵，這一顯著特征亦在此次發(fā)布的前道涂膠顯影Track設(shè)備中有明顯體現(xiàn)。

APP了解到，Ultra LITH專為300毫米晶圓而設(shè)計(jì)，共有4個(gè)適用于12英寸晶圓的裝載口，8個(gè)涂膠腔體、8個(gè)顯影腔體，腔體溫度可精準(zhǔn)控制在23°C±0.1°C，烘烤范圍為50°C至250°C，晶圓破損率低于1/50000，支持包括i-line、KrF和ArF系統(tǒng)在內(nèi)的各種光刻工藝。

與市場(chǎng)中其他采用水平式架構(gòu)的競(jìng)品不同，盛美上海的Ultra LITH采用的是垂直交叉架構(gòu)，形成差異化的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。基于該全球?qū)＠暾?qǐng)保護(hù)的全新架構(gòu)，Ultra LITH可支持拓展至12個(gè)涂膠腔體及12個(gè)顯影腔體，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能可達(dá)300片，將來(lái)在配備更多的涂膠和顯影腔體的條件下還能達(dá)到每小時(shí)400片以上的產(chǎn)能。

除此之外，Ultra LITH還具備了多個(gè)技術(shù)優(yōu)勢(shì)。在后道封裝多年積累的涂膠顯影技術(shù)的基礎(chǔ)上盛美上海為該設(shè)備配備了穩(wěn)定的電控架構(gòu)及強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，這在高精度要求的光刻環(huán)節(jié)尤為重要;同時(shí)，搭載了高速穩(wěn)定的機(jī)械手系統(tǒng)，多機(jī)械手協(xié)同配合，可實(shí)現(xiàn)晶圓傳輸路徑的優(yōu)化，提高傳輸效率。

設(shè)備內(nèi)部的氣流分布進(jìn)行了優(yōu)化處理，可減少顆粒污染，強(qiáng)大的清洗技術(shù)亦可支持未來(lái)浸沒式光刻機(jī)對(duì)硅片背面的顆粒清洗需求。且分區(qū)控制的高精度熱板由公司自主研發(fā)，已達(dá)到業(yè)界先進(jìn)水平。

盛美上海表示，Ultra LITH設(shè)備適配性強(qiáng)，支持主流的光刻機(jī)接口，第一臺(tái)設(shè)備出貨便可進(jìn)行與光刻機(jī)的對(duì)接測(cè)試。公司將于幾周后向中國(guó)國(guó)內(nèi)的邏輯客戶交付首臺(tái)ArF工藝的前道涂膠顯影Track設(shè)備，并將于2023年推出i-line型號(hào)設(shè)備。此外，公司已開始著手研發(fā)KrF型號(hào)的設(shè)備。

在客戶驗(yàn)證時(shí)間方面，基于設(shè)備的成熟度，通常是在一年至一年半左右，驗(yàn)證成功后，便可接獲重復(fù)訂單。鑒于全球市場(chǎng)對(duì)涂膠顯影設(shè)備的強(qiáng)勁需求，盛美上海將在多客戶之間進(jìn)行平行驗(yàn)證，這有望顯著提高Ultra LITH設(shè)備的放量速度。

可以預(yù)見，自2024年開始，涂膠顯影設(shè)備將成為盛美上海未來(lái)業(yè)績(jī)成長(zhǎng)的新增長(zhǎng)曲線之一，這將在公司的財(cái)報(bào)中逐漸體現(xiàn)。